曝光（exposure）指感光材料成像時接受光照的過程，物理含意是指光線使感光層面（涂了感光化學物）產生潛影。在攝影中，曝光也指穿過鏡頭（光圈）和快門到達膠片或感光元件上的光的總量，也稱作曝光量。攝影曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大小）決定。膠片或感光元件上的曝光量與影像清晰度直接相關，曝光正確與否，都會直接影響影像的質量與效果。曝光是個綜合性的問題，并不是簡單地用測光表測量一下人物面部的亮度而已。攝影中，根據(jù)不同的需求或場合，可以采取不同的曝光模式，如手動曝光、自動曝光模式下的光圈優(yōu)先模式、快門優(yōu)先模式、程序式曝光模式等。而針對不同的場合，如場景是在室外，還是室內，景物順光還是逆光等，也可以采取不同的曝光控制方式。
早期的科學家，如羅伯特·波義耳（Robert Boyle）在1663年發(fā)現(xiàn)銀鹽在陽光的照射下會變黑的現(xiàn)象。1727年，德國人舒爾策（Schulze）第一個利用這種現(xiàn)象印制圖像。法國人尼埃普斯（Nièpce）從19世紀20年代開始，對利用曝光獲取影像用于制版和刻畫進行了多年的研究。19世紀30年代，路易·達蓋爾（Daguerre）在尼埃普斯的研究基礎上，利用金屬版發(fā)明出了實用的攝影術。之后，隨著技術的不斷進步，相繼出現(xiàn)了硝化纖維素底版、明膠底版和膠片和電子圖像傳感器，技術的發(fā)展使攝影曝光時間不斷縮短，同時底片的感光度也不斷增強。
曝光是攝影最基本的也是最重要的技術。曝光后的工序是化學顯影，顯影使?jié)撚帮@現(xiàn)并固化。工業(yè)上很多設備都應用了曝光的原理，將圖文信號轉移到需要的材料上。
定義
輻射度學和光度學基本量和單位
物理學中，輻射度學是從純物理角度對輻射功率傳輸?shù)姆从常舛葘W則是依據(jù)光輻射對人眼產生的視覺效應來度量光輻射。因此，輻射度學和光度學處理的量值之間存在著密切關系，但又有重要的區(qū)別。
曝光量定義
輻射曝光量指被光輻射照射的表面上單位面積內接收的輻射能量，即，單位為J/m2。輻射曝光量也可以定義為指定時間段內輻射照度對時間的積分，即。
對于不可見光，如紅外線、紫外線、X射線的曝光量，可用輻射曝光量公式計算。
攝影中，曝光量一般指光度曝光量，光度曝光量指被光照表面單位面積內的光量，即，單位為勒克斯秒，即流明秒每平方米（lm·s/m2）。光度曝光量也可以定義為指定時間段內輻射照度對時間的積分，即。當為常量時，有 。
由攝影曝光量的計算公式，可以得到曝光參數(shù)方程，式中為景物在底片上的實際曝光量，其受景物的亮度、相機光圈的大小、曝光時間長短等因素的影響，為底片的最佳曝光量，其決定因素有底片的種類和感光度等。由曝光參數(shù)方程可得到方程,該式中為相機鏡頭的光圈，為快門開合時間（單位：秒），為景物的平均亮度（單位：尼特），為底片的感光度，為照相機的曝光常數(shù)。
攝影中，曝光量加法制（APEX）定義：，，,。根據(jù)該公式可以得到，兩取對數(shù)可得AV+TV=BV+SV。國際上規(guī)定，把AV+TV或BV+SV稱為“曝光值”（Exposure Value，即EV值），即EV=AV+TV=BV+SV。EV值小，則表示曝光量大，EV值大，則表示曝光量小。例如，參照下表，如果某一景物的亮度為32尼特，則其BV值就是3，這時如果用感光度為400的底片拍攝，ISO400 的SV值為7，那么對應的EV值就是3+7=10；同樣，光圈F5.6 的AV值為5，快門時間1/30秒的TV值為5，則其對應的EV值也為10。
同樣，由前述有EV=，則利用該公式代入相應的光圈數(shù)和曝光時間，同樣可以計算出對應的EV值。例如當光圈數(shù)為F4、曝光時間1/60秒時，將兩值代入前式可算出對應的EV值為10。
簡史
早期攝影化學
歷史上關于攝影化學最早的記錄是關于阿拉伯的哈及莫（Hajjam），他是第一個制備出硝酸銀的人。后來的一些學者先后發(fā)現(xiàn)銀鹽（硝酸銀或氯化銀）在陽光的照射下會變黑，如法國人法布里虛，英國化學家羅伯特·波義耳等。德國人舒爾策（Schulze，1687~1744）是第一個利用銀鹽在光照下變黑印制圖像的人。法國人夏爾勒（Charles，1746~1823）在1780年用陽光在銀鹽的紙上曬，得到了一個影子的輪廓圖像。
發(fā)展
法國人尼埃普斯（Joseph Nicéphore Nièpce，1765~1833）從19世紀20年代起就開始研究通過對經過處理的金屬板曝光來獲取影像，以便對曝光后的金屬板進行刻蝕制版，用于印刷。1824年，他使用黑盒子（相機）獲得了圖像，拍攝了一幅石板畫，曝光時間是5天。后來，其和身為畫師的法國人路易·達蓋爾（Louis Jacques Mand Daguerre，1787~1851）建立起合作關系，1832年，兩人利用薰衣草精蒸餾后的殘留物作為感光物質，曝光不到8小時后，得到了影像。在尼埃普斯去世后，達蓋爾在攝影化學研究方面取得了進展，1835年，他經過反復試驗后發(fā)現(xiàn)：經過陽光的照射后，在涂了碘化銀的金屬版上能產生清晰的影像。后來，達蓋爾把他的研究和尼埃普斯的研究相結合，使產生影像的曝光時間大大地縮短，得到被稱為達蓋爾式攝影法的實用攝影技術。
1851年，英國人阿切爾（Archer，1813~1857）利用玻璃片作為載體，在玻璃版上涂上感光物質，發(fā)明出了濕版硝化纖維素。濕版火棉膠有一個缺點，就是其感光底版不能長時間保存，必須在拍攝前制成濕版火棉膠底版，然后立即安裝在照相機里進行拍攝。1855年，物理學家陶配諾（Taupenot，1824~1856)在濕版火棉膠的基礎上，發(fā)明了干版火棉膠，其最大的優(yōu)點是人們可以提前制成感光版，然后帶出去拍照。
干版火棉膠法有一個不足點，那就是感光版的感光度低。1871年英國醫(yī)生瑪多克斯（Maddox，1816~1902）發(fā)明出了利用明膠代替硝化纖維素的方法，使得感光版的敏感度得到很大提升，也使得攝影曝光時間得到大大縮短。1878年，英國人貝耐特（Bennett）把感光乳劑加熱的時間進一步延長，使得感光版比濕版火棉膠的最快速度又提高了數(shù)倍。這一發(fā)明為攝影的快速曝光打開了大門，也為現(xiàn)代工業(yè)化生產感光材料創(chuàng)造了條件。另外，由于感光版感光時間的縮短，相機中快門控制系統(tǒng)也得到了進一步發(fā)展。
19世紀80年代，美國的攝影愛好者、伊士曼柯達公司的創(chuàng)始人喬治·伊斯曼（George Eastman）在紙質版的基礎上發(fā)明出了可以卷曲的“感光版”，即膠卷。
1888年，查爾斯·德里菲爾德（Charles Driffield）和費迪南·赫特（Ferdinand Hurter）發(fā)明了可以有效測量物體的反射光，并將物體的反射的光線量和底片的感光性關聯(lián)起來的設備（曝光計算器）。1890年，二人合作發(fā)表了感光度測定學方面的著作，確定了測定影像亮度、曝光度和感光乳劑敏感度的方法，在文中提到了計算曝光時間的數(shù)學方程式。
20世紀50年代，美國率先提出關于攝影曝光的APEX系統(tǒng)。
1974年，博伊爾(Willard Boyle)和史密斯（George E. Smith)發(fā)明了數(shù)字攝影的關鍵元件——電荷耦合元件（CCD），即圖像傳感器。相比于傳統(tǒng)的銀鹽感光材料，圖像傳感器的感光度有很大提高。20世紀90年代，電子計算機技術介入攝影，利用光、電、微機技術，用電荷耦合器和計算機芯片相互配合，成功取代了光化學乳劑感光片。
相關概念
多次曝光
多次曝光又稱多重曝光，指在同一底片上進行兩次以上的曝光，把兩個以上的不同影像匯聚在同一畫面上。
自動曝光
自動曝光是照相機根據(jù)景物的亮度自行調整光圈、快門，以期達到最佳曝光效果。相機的自動曝光又有光圈優(yōu)先式 、快門優(yōu)先式等模式。
曝光寬容度
曝光寬容度指感光材料在正確再現(xiàn)景物亮度差異前提下允許曝光量變化范圍的數(shù)值，其大小取決于底片的景物的亮度范圍和底片的寬容度。三者之間的關系為曝光寬容度=底片的寬容度-景物曝光范圍。
手動曝光
手動曝光是攝影者完全根據(jù)自己的曝光需要自行設定光圈和快門實現(xiàn)曝光。
曝光過度
曝光過度指感光底片上所接受的曝光量顯著多于正常水平。
曝光不足
曝光不足指感光底片上所接受的曝光量顯著少于正常水平。
曝光補償
曝光補償是相機自動曝光下模式下的一種功能，是一種將相機測算出的曝光值加以改變的功能。正補償使照片變亮，負補償使照片變暗。
平均曝光
平均曝光有兩種含義：一是測量被攝景物的平均亮度，并以此確定曝光；二是分別測量景物不同部分的亮度，取它們的平均值曝光。這種曝光方式是多數(shù)自動曝光系統(tǒng)所采取的曝光方式。
曝光控制
決定曝光的三要素
攝影曝光三要素為光圈、快門和感光度。光圈是相機上用以調節(jié)光孔大小的裝置，其調節(jié)的是入射光通過相機鏡頭的面積；快門是調節(jié)進光時間長短的裝置，即感光元件受到光照時間的裝置。相機是通過光圈與快門的配合來完成曝光的。感光度（ISO）是衡量感光元件對光線的敏感程度的量。對于相機而言，“ISO”數(shù)據(jù)越大，說明其膠片或感光器件的感光度越高。
攝影中，對于特定的底片和圖像傳感器而言，其曝光量取決于景物本身的亮度和拍照時光圈的大小及快門時間的長短。用一個形象的例子來做一下說明：如果說曝光量相當于一杯水，光圈相當于水龍頭的粗細，而快門相當于開水龍頭的時間。那么如果粗管子開10秒鐘就可能放滿一杯水，而細管子可能要1分鐘才能放滿一杯水；如果水壓太小，水流太弱，或加粗管子或加長時間才能把水放滿。所以，要做到正確曝光需要光圈和快門的恰當配合。而應該調整光圈還是調整快門，則要看具體的攝影意圖和拍攝對象。
利用“EV表”（如下圖）可以清晰地顯示出在相同的亮度下光圈與快門速度的多種組合。下圖中的“EV表”，其縱軸為光圈值，光圈值越大，表明光孔越小，橫軸為快門速度，其值越小，表示快門開合速度越快，而各交叉點斜線右上方所對應的數(shù)值即為曝光值，即EV值。在同一斜線上的對應光圈和快門的不同組合的EV值是相同的，也就是說，同一EV值，光圈和快門速度可以有不同組合，而不同組合所拍出照片的亮度是一樣的。而在不同的場景下或不同的拍攝需求，則要選擇適合的光圈和快門速度，如對于動體的曝光，在確定曝光組合時，往往要首先考慮使用怎樣的快門速度，因為快門速度直接影響動體的拍攝效果。快門速度快，拍攝的動體影像被“凝固”，其優(yōu)點是動體的影像被清晰地記錄下來，缺點是影像的動感不足。快門速度慢，得到的動體影像虛糊，其優(yōu)點是有強烈動感，缺點是動體細部甚至面目表現(xiàn)不清。快門速度適中，得到的動體影像是虛實結合，其優(yōu)點是既能表現(xiàn)動體的面目，又具有動感。
曝光控制的要點
一般情況下，曝光控制有兩個目的：一是使照片的影像合乎人們對自然景物的客觀感受或攝影者個人的主觀感受；二是使影像的層次和色彩得到良好的表現(xiàn)。底片的曝光量與影像清晰度直接相關，曝光過度或者曝光不足，都會導致影像清晰度下降。
為達到第一個目的，曝光時要選定一組合適的曝光組合參數(shù)，即訂光。訂光可以根據(jù)曝光計或照相機測光系統(tǒng)給出的光圈、快門參數(shù)，也可以根據(jù)測量結果由攝影者自行決定曝光組合參數(shù)。常規(guī)攝影中可以采取兩種訂光方式以使曝光基本正常：一種是以照度訂光；一種是以中級反光率的物體的亮度訂光。以亮度訂光的常用方法是使用反光率為18%的標準灰板，即拍攝前，將標準灰板放在被攝體的位置，測量灰板的亮度并以此測量值訂光。這兩種訂光方法可以基本避免曝光失誤，而對于特殊的攝影意圖，可以在上述兩種訂光方式的基礎上增加或減少曝光。如以“拍攝者的意圖”為標準的曝光，在此種判斷標準下最佳曝光可能并非只有一張，一般而言，偏亮或偏暗的效果會給人以不同的感覺和氛圍，偏亮的效果會給人以明朗的感覺和輕快的氛圍，而偏暗的效果則容易表現(xiàn)出寂寥和沉重的氛圍。以下圖為例，與肉眼所見相近的是“無補償”的照片，畫面呈現(xiàn)了靜謐安詳?shù)姆諊谷烁杏X到樹林的幽深；稍作正補償增亮后，顯出了淡淡的新芽色彩；再增亮一些，就表現(xiàn)為白霧繚繞中透明的姿態(tài)了。因而，下圖中的6張照片，每張都可稱為最佳曝光。
對于第二個目的，則要通過構圖的取舍、照明的調整使被攝體的亮度關系符合感光底片的特性，即控制物體的亮度差距。正確訂光能解決攝影的正確曝光問題，但是并不能保證所有的被攝體都被正常還原，因為底片的寬容度有限；所以曝光控制的另一個重要問題是控制景物的亮度范圍。通常可以采取下列方式：改變景物暗部或亮部的照明，或改變構圖對景物的明暗做出一定程度的取舍。
晴天順光照明：順光情況下，拍攝者只能看到景物的受光面，而看不到背光面，因此，景物的亮度差距不大，其亮度差距取決于景物本身的反光率。如果景物各處的反光率相差不大，可以根據(jù)景物的平均亮度確定曝光，也可以用照度或人臉的亮度確定曝光。
晴天側光照明：側光情況下，景物的亮度取決于陽光直射的程度以及周圍環(huán)境的反光情況，在景物反光率分布比較均勻時，可以根據(jù)所選取景物的平均亮度確定曝光。
陰天、雨雪天氣：陰雨天氣攝影，在曝光上有較大的寬容度，但要注意在取景時要注意選取反光率差別較大的景物，以避免畫面發(fā)灰。
晴天逆光、側逆光照明：此條件下的曝光控制相對復雜，因為逆光條件下，景物的亮度差距較大。這種情形下，要重視想展現(xiàn)的是什么，這與質感的再現(xiàn)也密切相關，只有在清楚從亮部到暗部的灰階是否豐富，在有明暗反差的場景中應優(yōu)先表示哪一部分，然后再決定曝光，才能拍出曝光適合的照片。因此，逆光攝影的關鍵是對被攝景物作出適當?shù)娜∩幔赐ㄟ^構圖縮小景物的亮度差距。如果以明亮景物作為拍攝的主體，則應當以亮景物作為曝光的依據(jù)；反之，如果以暗景物作為拍攝主體，則可以以暗背景襯托主體。
夜景：夜景拍攝畫面中會有較多的暗區(qū)，在構圖時，應注意景物的亮暗搭配。
室內現(xiàn)有光照明：室內現(xiàn)有光照明條件是指場所中自然狀態(tài)的、固有的照明條件，區(qū)別于影室中人為打造的照明條件。此情況下，可以借助反光板、輔助照明等手段來改變景物的亮度差距，但補光或輔助照明要以不損害現(xiàn)有光的照明效果為標準。
影室照明：影室內，景物的光比和反光率可以人為控制，曝光控制的關鍵是把握住景物的光比關系以及局部高光或陰影的亮度。
曝光原理
攝影曝光基本機制：攝影曝光，就是拍攝者確定拍攝對象后，對其進行構圖，接著選擇合適的光圈、快門速度、膠片的感光度或數(shù)碼相機菜單設置里的相對感光度，按下快門，被攝對象在膠片或電子感光元件上形成影像，這一過程就稱為攝影曝光。如圖，來自光源的光投射在被攝物上，來自光源的物體被物體反射，在按下照相機快門的瞬間，反射光經照相機的鏡頭光圈、快門到達底片上，使底片曝光。底片上的化學感光材料或圖像傳感器接收到不同強度的光照后，會產生強弱不同的化學或物理反應，從而達到記錄圖像的目的。
傳統(tǒng)攝影感光材料上涂布了一層感光乳劑，感光乳劑中的主要感光化學成分是一種叫鹵化銀的銀鹽材料。鹵化銀在光線的作用下產生光化學反應。鹵化銀晶體的鹵元素離子在光照射下釋放出電子，其電子被乳劑層中的感光中心捕獲后，與鹵化銀中的銀離子正負電中和，成為銀原子。以溴化銀為例，其離子反應式為
Br-+hν（光）→Br+e-，Ag+ +e-→Ag
上式中，hν為光量子，e-為電子，Br-為溴化物，Br為溴原子，Ag+為銀離子，Ag為銀原子。
這就是膠片照相中的初級光化學反應，即一個光量子使一對鹵族元素離子和銀離子生成一對中性原子。在這個過程中，銀原子聚集到一定大小時就形成了顯影中心，而無數(shù)個顯影中心就構成了潛影。
在利用光化學感光材料照相的方式中，有不同種類的感光材料，如無機化合物感光材料有金屬重氮、重鉻酸鹽、碘化鉛、靜電照相中的轉印法硒，有機感光材料有重氮膠片、微泡照相、有機光色膜、感性光沒藥樹、自由基照相、光致抗蝕膠等。不同種類的感光材料在受到可見光或紫外線、射線照射后反生的化學反應會有所不同，如重鉻酸鹽的感光機理是Cr6+還原為Cr3+的同時，能硬化周圍的保護膠體，使膠體不在熱水會水中溶解。
不同于利用化學感光材料的底片，現(xiàn)代數(shù)字影像技術的核心部分是一種叫作圖像傳感器的器件，圖像傳感器將鏡頭所成影像的光信號轉化成計算機可以識別的數(shù)字信號儲存在磁盤上，再通過處理與輸出設備使用圖像。
現(xiàn)代數(shù)字攝影設備的圖像傳感器有兩種，一種叫“電荷耦合器”（即CCD芯片，意思是可充電的電荷耦合器）；另一種叫“互補金屬氧化物半導體”（縮寫為CMOS）。圖像傳感器芯片由許許多多微小的光電耦合元件組成，一個CCD或CMOS芯片就是由幾十萬、幾百萬、幾千萬，甚至上億個這樣的光電單元組成的，每個元件就是記錄影像的一個微小單元，在這個單元以內，影像的色彩、亮度完全一樣，千千萬萬個這樣的小單元組成影像。以CCD為例，其內部的光電元件可以將光的強弱轉換成大小不同的電荷，射到其上的光越強，電荷的變化越大。這樣，通過將電荷的變化轉換成計算機能識別的數(shù)字信號，便能實現(xiàn)圖像信息的記錄。
應用
日常攝影
日常生活中，攝影曝光是最常見的曝光手段。因為如今攝影在人們的生活、工作或研究中有著大量的應用，而曝光又是攝影中必不可少的過程。另外，曝光正確與否對攝影效果至關重要，所以攝影曝光也是一門技術，對于攝影曝光也有很多專門的研究。
醫(yī)學X射線攝影
X射線攝影的原理則與常見攝影的成像原理有所不同，其主要應用了X射線具有較強的穿透性，利用利用了人體不同組織和器官對X射線的吸收程度不同，這樣，X射線透過人體后會攜帶相應的信息，而利用膠片將該X射線攜帶的信息直接記錄下來的檢查方法就是普通醫(yī)學X射線攝影。相應的，透過被檢體的X射線照射成像媒體的過程便是X射線攝影的曝光過程，對應的X射線的照射量就稱為曝光量。一般而言，X線攝影的曝光量的絕對值不易測量，通常可以利用X線攝影管電壓(kV)、管電流(mA)、攝影時間(s)等來預估曝光量。另外，X射線的曝光量還受到許多因素的影響，如被檢體的厚度、攝影的距離、成像底片的感光特性等。
藍圖
藍圖在工業(yè)土木、建筑等領域有著廣泛應用，有白底藍線和藍底白線兩種，其中藍底白線法較為普遍。其基本操作是將復制材料重疊在有繪圖墨水的原圖上，利用燈光照射，對原圖進行曝光，沒有黑線的地方就會感光，對于藍底白線法，曝光的地方經過化學處理曾經呈藍色。白底藍線法則與之相反，即未曝光的地方經處理過后會呈藍色。這樣原圖上的信息就留存在復制材料上。
激光照排
激光照排是將文字通過計算機分解為點陣形式，通過控制激光在感光底片上掃描，用曝光點的點陣組成文字和圖像。激光照排是印刷出版行業(yè)中常見的技術印刷中，用這種方式可制成軟片，用于制版。
印刷制版
印版制版的方法可以分為照相法和雕刻法，照相法則主要靠光敏劑的引發(fā)聚合或分解來制備印版。照相版可分為照相凸版、照相凹版、有水平印版等。以照相凸版為例，其制版工藝是將原稿制成的底片覆在涂有感光材料的版材上，經強光曝光，感光材料受光部分會發(fā)生感光反應，如發(fā)生硬化，化學性質改變，這樣，經進一步處理，溶去未感光的部分，非圖文的區(qū)域凹下，圖文部分形成凸起的浮雕，然后再經過一系列處理制成印刷版。
光刻工藝
曝光是光刻技術中的關鍵工藝環(huán)節(jié)。光刻工藝中的曝光方式可分為接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光、掃描式曝光等。根據(jù)所用曝光光源的不同可分為光學曝光、X射線曝光、電子束曝光、離子束曝光。不同的曝光光源有各自的特點。
接觸式曝光是指將掩模版直接與基底接觸實現(xiàn)曝光，其特點是技術比較簡單，分辨率高，但掩模版與基底之間容易夾雜灰塵顆粒，造成掩模版損傷。
接近式曝光是在掩模版與基底之間留一定的空隙實現(xiàn)曝光，其不會造成模版損傷，但由于模版與基底之間有一定間隙，同等條件下，相較于接觸式分辨率會降低。
投影式曝光是利用光學投影成像的原理，利用透鏡成像將模版上的圖形投影到基底上，實現(xiàn)圖形的轉移。投影式曝光能夠實現(xiàn)接觸式曝光的分辨力，又不會造成模版玷污或損傷。
掃描式曝光與接觸式、接近式和投影式曝光不同，掃描式曝光是直接將光束（或粒子束）聚焦成微小束斑，利用掃描的方式直接在涂有感光材料的基底上繪制圖形。這種方式不需要制作模版，但需要制定特定程序，以實現(xiàn)圖形的繪制。
光學曝光主要以紫外線、遠紫外線或極紫外線為光源，其常用的方式是接觸式、接近式和投影式。一般來說，不同的光源的分辨率不同，波長越短，分辨率越高。
X射線曝光是以X射線作為光源的曝光技術。與普通光學曝光相比，其特點是分辨率更高，成像質量好，且因為X射線穿透性好，對環(huán)境不敏感，掩模和基底間的塵埃顆粒等不會對曝光產生影響。
電子束曝光主要是利用電子束通過掃描或投影的方式在涂有感光膠的基底上描畫或復印圖形。其最大的特點是分辨率高，缺點是生產率低，并且存在嚴重的臨近效應，即由于電子散射效應，使得電子運動方向改變，會使得非曝光區(qū)域曝光，這會影響圖形分辨率和圖形精度。
離子束曝光主要是利用離子束對通過掃描或投影的方式在涂有感光膠的基底上描畫或復印圖形。和電子束曝光相比，其突出優(yōu)點是無臨近效應，同樣可以獲得高圖形分辨率，缺點同樣是生產率低。
在光刻工藝的曝光中要根據(jù)光源的強弱、光源與基底間的距離、光刻膠的性能以及光刻圖形尺寸大小選擇合適的曝光時間。曝光時間的不合理會對光刻轉移的圖形質量產生影響：曝光時間短會造成曝光不足，光刻膠可能反應不充分，造成顯影困難；曝光時間過長，會使非感光部分邊緣微弱感光，顯影后圖形輪廓粗糙，甚至脫膠。
參考資料 >
曝光.術語在線.2024-04-06
數(shù)字攝影半世紀：像素改變世界.中國青年報百家號.2024-03-27
發(fā)光強度.術語在線.2024-05-03
亮度.術語在線.2024-05-03
曝光量.術語在線.2024-05-23
曝光寬容度.中國知網(wǎng).2024-06-12
曝光過度.中國知網(wǎng).2024-06-11
曝光不足.中國知網(wǎng).2024-06-11
感光度.術語在線.2024-06-02