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來源：互聯網

陳蓉，女，1978年8月出生，出生于武漢，高中畢業保送進入中國科學技術大學，2001年獲得學士學位，2006年獲得美國斯坦福大學博士學位。

現任九三學社湖北省第八屆委員會副主任委員，華中科技大學柔性電子研究中心副主任，武漢市科學技術局副局長（掛職）。

人物經歷

教育經歷

工作經歷

2011年加入華中科技大學，擔任機械科學與工程學院教授、院長助理，華中科技大學柔性電子研究中心副主任，集成電路學院、武漢國際微電子學院、光學與電子信息學院、中歐清潔與可再生能源學院特聘教授。

2022年4月，任九三學社湖北省第八屆委員會副主任委員。

中國人民政治協商會議第十一屆、十二屆湖北省委員會委員，政協第十三屆湖北省委員會委員（2024年1月補任），歐美同學會理事、武漢市歐美同學會副秘書長、湖北省政府辦公廳特邀督查員、武漢市僑聯第十屆委員會顧問等。

任免信息

2022年4月，九三學社湖北省第八屆委員會召開第一次全體會議，選舉產生第八屆常務委員會和新一屆領導班子，陳蓉當選九三學社湖北省第八屆委員會副主任委員。

社會兼職

國際ALD大會執行委員會委員、國際ALD應用大會暨首屆亞洲ALD大會主席、歐盟HERALD（COST action MP1402-歐洲科學技術合作組織）成員、國際ECS大會ALD應用組委會委員，擔任Physica B編輯，中國工程院旗艦期刊Engineering特邀青年通訊專家、中國兵器裝備集團有限公司《表面技術》期刊評委會委員等，美國NSF基金、荷蘭Technology Foundation STW、智利國家科技委員會評審、美國Lawrence-Berkeley國家實驗室開放基金特邀評審專家，電氣電子工程師學會IEEE Senior Member （納米技術委員會）、美國真空學會（AVS）、美國電化學學會（ECS）、美國化學學會（ACS）、美國材料研究學會（MRS）、美國物理學會（APS）等國際學會會員，中國硅酸鹽學會薄膜與涂層分會理事（兼任青年工作委員會委員）、中國機械工程學會機器人分會委員、機械工程學會、真空學會高級會員、湖北省人工智能學會理事，擔任國家科學技術獎、全國創新爭先獎、國家重點研發計劃、國家自然科學基金等評審，Appl. Phys. Lett., J. Appl. Phys., ACS Nano, Chem. Mater., J. Phys.Chem., Langmuir, Appl. Surf. Sci.等期刊審稿人、Elsevier出版社書本計劃審稿人等。

人才培養

執教課程

人物榮譽

主要成就

科研成就

教育部“新世紀人才支持計劃”獲得者，973青年項目首席科學家。擔任國家973國家重大科學研究計劃--青年科學家專題項目首席科學家，主持國家自然科學基金。圍繞著原子層沉積、納米顆粒制備、薄膜工藝與設備開發，承擔了多項新能源與微電子相關項目的研究，是選擇性原子層沉積技術的先驅者之一。獲美國半導體研究協會Simon Karecki獎、首屆德州儀器微電子領域女性領袖獎、英特爾研究院杰出執行和創新實踐獎等。所在團隊2008年獲得Frost & Sullivan北美先進海量存儲芯片方案技術創新獎，AlwaysOn全球250入選杰出團隊，以及英特爾加利福尼亞州技術制造部門獎等一系列榮譽稱號。在Advanced Materials, ACS Nano, 能量 & Environmental Science等國際知名期刊上發表論文50余篇；微納制造領域發明專利14項，其中5項為美國專利，3項國際專利；主編撰寫“十二.五”重點出版物一部；在相關領域的國際學術會議作特邀報告及其他報告40余次。

研究方向

1.原子層沉積技術與裝備

2.柔性電子制造薄膜生長裝備與工藝

3.機動車尾氣凈化技術

4.能源、電子領域的納米器件開發。

微納制造、納米材料生長工藝及設備開發，薄膜制備工藝及應用；原子層沉積技術、微電子和新能源領域的納米器件開發。將實驗和理論相結合，研究納米薄膜生長工藝及設備開發，用來解決未來電子和能源工業所即刻面臨的挑戰。研究的重點在于控制納米材料的生長、結構、及其性能，用于制造和表征具有精確的物質組成、以及原子尺度上可控的納米結構，將其整合成納米器件，并開發相關高精度生長設備。

代表性著作

1.Zhengzheng Chen, Xiao Liu, Kyeongjae Cho, Rong Chen*, Bin Shan* “密度 Functional Theory Study of the 氧 Chemistry and NO Oxidation Mechanism on Low-Index Surfaces of SmMn2O5 Mullite” ACS Catal. 2015, 5, 4913.

2.Bin Huang, Wenjuan Yang, Yanwei Wen, Bin Shan*, Rong Chen* “Co3O4 Modified TiO2 Nanotube Arrays via Atomic Layer Deposition for Improved Visible-Light Photoelectrochemical Performance” ACS Appl. Mater. Inter. 2015, 7 （1）, 422.

3.Kun Cao, Qianqian Zhu, Bin Shan*, Rong Chen* “Controlled Synthesis of Pd/Pt Core Shell Nanoparticles Using 面積selective Atomic Layer Deposition” Sci. Rep. 2015, 5, 8470.

4.Chen-Long Duan, Xiao Liu, Bin Shan, and Rong Chen* “Fluidized bed coupled rotary reactor for nanoparticles coating via atomic layer deposition” Rev. Sci. Instrum. 2015, 86, 075101.

5.Wen-jie He, Hai-tao Zhang, Zhiyong Chen, Bo Chu, Kun Cao, Bin Shan, Rong Chen* “Generalized Predictive Control of Temperature on an Atomic Layer Deposition Reactor” IEEE Trans. Contr. Sys. Tech. 2015, 99 DOI: 10.1109/TCST.2015.2404898.

6.Wen-Jie He, Hai-Tao Zhang, Zhiyong Chen, Ji-Long Lin, Kan Tian, Bin Shan, Rong Chen* “Temperature Control for Nano-Scale Films by Spatially-Separated Atomic Layer Deposition based on Generalized Predictive Control” IEEE Trans. Naotechnol 2015, DOI: 10.1109/TNANO.2015.2471298.

7.Bin Huang, Kun Cao, Xiao Liu, Lihua Qian, Bin Shan*, Rong Chen* “Tuning the morphology and composition of ultrathin cobalt 氧化物 film via atomic layer deposition” RSC Adv. 2015, DOI: 10.1039/C5RA09782G.

8.Yanwei Wen, Xiao Liu, Xianbao Duan, Kyeongjae Cho, Rong Chen*, Bin Shan* “Theoretical Study of Li-Doped sp2-sp3 Hybrid 碳 Network for 氫 Storage" J. Phys. Chem.C 2015, 119 （28）, 15831,

9.Xiao Liu, Yanwei Wen*, Zhengzheng Chen, Bin Shan and Rong Chen* “First-principles study of the 鈉吸附 and diffusion on phosphorene” Phys. Chem. Chem. Phys. 2015, 17, 16398.

10.Xiao Liu, Yanwei Wen, Bin Shan, Kyengae Cho, Z. Chen*, Rong Chen* “Combined effects of defects and hydroxyl groups on the electronic transport properties of reduced graphene 氧化物” Appl. Phys. A 2015, 118, 885.

11.Xiao Liu, Zhengzheng Chen, Yanwei Wen, Rong Chen, Bin Shan “Surface stabilities and NO oxidation kinetics on hexagonal-phase LaCoO3 facets: a first-principles study” Catal. Sci. Tech. 2014, 4, 3687.

12.Qingbo Wang, Yanwei Wen, Rong Chen, Bin Shan, “A hybrid functional study of the electronic and optical properties of tetragonal PbO-type phase of ZnO under pressure”, J. Alloys Compd. 2014, 586, 611.

13.Stephanie L. Candelaria, Rong Chen, Yoon-Ha Jeong, Guozhong Cao, “Highly porous chemically modified 碳 cryogels and their coherent nanocomposites for energy applications”, Energy Environ. Sci. 2012, 5, 5619.

14.Rong Chen, Zhengzheng Chen, Bo Ma, Xiaohong Hao, Neeti Kapur, Jangsuk Hyun, Kyeongjae Cho, Bin Shan, “CO 吸附 on Pt（111） and Pd（111） surfaces: a first-principles based lattice gas Monte-Carlo study”, Comp. Theo. Chem. 2012, 987, 77.

15.Zhengzheng Chen, Bin Shan, Rong Chen, “Electronic origin of the phase transition in ternary alloy Mo（Si1-x,Alx）2”, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 101903.

16.Noureddine Tayebi, Yuegang Zhang, Robert J. Chen, Quan Tran, Rong Chen, Yoshio Nishi, Qing Ma, Valluri Rao, “An ultraclean tip-wear reduction scheme for ultrahigh 密度 scanning probe-based 數據 storage”, ACS Nano 2010, 4 （10）, 5713.

17.Rong Chen, Stacey F. Bent, “Chemistry for positive pattern transfer by 面積selective atomic layer deposition” Adv. Mater. 2006, 18, 1086.

18.Rong Chen, Stacey F. Bent, “Highly stable monolayer resists for atomic layer deposition on 鍺 and 硅” Chem. Mater. 2006, 18, 3733.

19.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, David W. Porter, Stacey F. Bent, “Achieving 面積selective atomic layer deposition on patterned substrates by selective surface modification” Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 191910.

20.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, Stacey F. Bent, “Investigation of self-assembled monolayers as deactivating agents for atomic layer deposition of HfO2 high-k gate dielectric” Chem. Mater. 2005, 17, 536.

21.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, Stacey F. Bent, “Self-assembled monolayer resist for atomic layer deposition of HfO2 and ZrO2 high-k gate dielectrics” Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4017