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李效民
來源:互聯(lián)網(wǎng)

李效民,男,1960年生,中國科學院上海硅酸鹽研究所研究員,主要從事硅基信息功能薄膜集成系統(tǒng)、新型氧化物功能薄膜材料及低維半導體納米材料方面的研究。

簡介

1982年,畢業(yè)于東北大學金屬材料專業(yè)。

1982年至1988年,在鋼鐵研究總院難熔金屬研究室工作。

1988年,作為國家教委公派留學生赴日本留學。

1991年,獲日本山形大學工學研究科應用化學專業(yè)碩士學位,

1994年,獲日本大阪大學理學研究科無機物理化學專業(yè)理學博士學位。

1994至2001年,在日本村田制作所研究開發(fā)中心任高級研究員。

2002年,任中國科學院上海硅酸鹽研究所高性能陶瓷和超微結(jié)構(gòu)國家重點實驗室研究員。

2002年3月,獲中國科學院“百人計劃”基金。

2013年,獲上海市科學技術(shù)三等獎

研究經(jīng)歷

博士期間(1991-1994)

人工晶體的分子束外延生長(Epitaxy)的物理化學過程及結(jié)晶生長機制。

分子束外延人工晶體的物理特性,特別是超導特性及異常反磁性。

人工晶體的微量元素添加方法及微量元素對人工晶體物理性質(zhì)的影響。

設計出了Ba-Ca-O系新型人工晶體結(jié)構(gòu),并應用以上方法制出了該新型人工晶體薄膜。對該人工晶體進行了晶體結(jié)構(gòu)分析及超導電性測試,證明其與設計的晶體結(jié)構(gòu)相一致,并得到了預期的超導電性。

日本公司工作期間(1994-2001)

介電體材料(TiO2、SrTi臭氧)、鐵電體材料(PbTiO3、Pb(Zr,Ti)O3)的CVD(化學氣相沉積)合成法及等離子CVD合成法的研究。

激光熔射薄膜生長裝置的設計。

各種單晶薄膜、多晶薄膜( 、TiN-氮化鋁、MgO、Pt、Ir)的激光分子束外延生長方法及其性能的研究。

各種單晶薄膜、多晶薄膜(TiN 、MgO、Pt)的離子束濺射生長方法及其性能的研究。

Pb(Zr,Ti)O3鐵電體薄膜的晶體生長方法、生長方向的控制及其鐵電性、熱釋電性及壓電性的研究。

單晶硅底板上鐵電薄膜的合成及微型電子元器件(鐵電體不揮發(fā)性存儲器、微型熱釋電敏感器、微型壓電麥克風、微型電子開關)的研究開發(fā)。

研究項目

2002~2005,“高性能陶瓷薄膜材料的結(jié)晶過程及其應用”中科院“百人計劃”項目

2002~2007,“集成信息功能陶瓷系統(tǒng)的基礎問題研究”國家重點基礎研究發(fā)展規(guī)劃(973)項目

2004~2006,“單晶氧化鋅納米線的摻雜及其相關物理特性研究”國家自然科學基金項目

2004~2007,“納米和梯度熱電材料與太陽能光電、熱電、風力發(fā)電系統(tǒng)”自然科學基金重大國際合作項目

2002~2004,“新型藍紫光發(fā)光器件用ZnO薄膜的研制”上海市科技發(fā)展基金項目

2004~2005,“氧化鋅基材料摻雜機理、光學性能及熱電性能的研究”上海硅酸鹽研究所創(chuàng)新項目

主要論文

參考資料 >

李效民研究員.中國科學院上海硅酸鹽研究所.2024-09-24

李效民.中國科學院教育業(yè)務管理平臺.2024-09-24

李效民.中國知網(wǎng).2024-12-09

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