閾值電壓（threshold voltage），又稱“開啟電壓”。MOS增強型場效應晶體管由不導通轉為導通的最小柵－源電壓。以VT表示。它對工作點選擇和飽和壓降的確定都很重要，這個參數離散性很大，手冊或產品目錄上往往只給出一個上限，確定值要通過測量。
閾值電壓(yuzhidianya)
閾值電壓 (Threshold voltage):通常將傳輸特性曲線中輸出電流隨輸入電壓改變而急劇變化轉折區的中點對應的輸入電壓稱為閾值電壓。在描述不同的器件時具有不同的參數。
如MOS管，當器件由耗盡向反型轉變時，要經歷一個 Si 表面電子濃度等于空穴濃度的狀態。此時器 件處于臨界導通狀態，器件的柵電壓定義為閾值電壓，它是MOSFET的重要參數之一。
如描述場發射的特性時，電流達到10mA時的電壓被稱為閾值電壓。
MOS管的閾值電壓探討
MOS管的閾值電壓等于backgate和source接在一起時形成channel需要的gate對source偏置電壓。如果gate對source偏置電壓小于閾值電壓，就沒有channel。一個特定的晶體管的閾值電壓和很多因素有關，包括backgate的摻雜，電介質的厚度，gate材質和電介質中的過剩電荷。每個因素都會被簡單的介紹下。backgate的摻雜是決定閾值電壓的主要因素。如果backgate
越重摻雜，它就越難反轉。要反轉就要更強的電場，閾值電壓就上升了。MOS管的backgate摻雜能通過在gate dielectric表面下的稍微的implant來調整。這種implant被叫做閾值調整implant（或Vt調整implant）。考慮一下Vt調整implant對NMOS管的影響。如果implant是由acceptors組成的，那么硅表面就更難反轉，閾值電壓也升高了。如果implant是由donors組成的，那么硅表面更容易反轉，閾值電壓下降。如果注入的donors夠多，硅表面實際上就反向摻雜了。這樣，在零偏置下就有了一薄層N型硅來形成永久的channel。隨著GATE偏置電壓的上升，channel變得越來越強的反轉。隨著GATE偏置電壓的下降，channel變的越來越弱，最后消失了。這種NMOS管的閾值電壓實際上是負的。這樣的晶體管稱為耗盡模式NMOS，或簡單的叫做耗盡型NMOS。相反，一個有正閾值電壓的的NMOS叫做增強模式NMOS，或增強型NMOS。絕大多數商業化生產的MOS管是增強型器件，但也有一些應用場合需要耗盡型器件。耗盡型PMOS也能被生產出來。這樣的器件的閾值電壓是正的。耗盡型的器件應該盡量的被明確的標識出來。不能靠閾值電壓的正負符號來判斷，因為通常許多工程師忽略閾值電壓的極性。因此，應該說“閾值電壓為的耗盡型PMOS”而不是閾值電壓為的PMOS。很多工程師會把后者解釋為閾值電壓為的增強型PMOS而不是閾值電壓為的耗盡型PMOS。明白無誤的指出是耗盡型器件可以省掉很多誤會的可能性。
繼續探討閾值電壓，電介質在決定閾值電壓方面也起了重要作用。厚電介質由于比較厚而削弱了電場。所以厚電介質使閾值電壓上升，而薄電介質使閾值電壓下降。理論上，電介質成分也會影響電場強度。而實際上，幾乎所有的MOS管都用純二氧化硅作為gate dielectric。這種物質可以以極純的純度和均勻性生長成非常薄的薄膜；其他物質跟它都不能相提并論。因此其他電介質物質只有很少的應用。（11 也有用高介電常數的物質比如氮化硅作為gate dielectric的器件。有些作者把所有的MOS類晶體管，包括非氧化物電介質，稱為insulated-gate field effect transistor（IGFET））
gate的物質成分對閾值電壓也有所影響。如上所述，當GATE和BACKGATE短接時，電場就施加在gate oxide上。這主要是因為GATE和BACKGATE物質之間的work 函數差值造成的。大多數實際應用的晶體管都用重摻雜的
多晶硅作為gate極。改變多晶硅的摻雜程度就能控制它的work function。
GATE OXIDE或氧化物和硅表面之間界面上過剩的電荷也可能影響閾值電壓。這些電荷中可能有離子化的雜質原子，捕獲的載流子，或結構缺陷。電介質或它表面捕獲的電荷會影響電場并進一步影響閾值電壓。如果被捕獲的電子隨著時間，溫度或偏置電壓而變化，那么閾值電壓也會跟著變化。
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