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《金剛石薄膜沉積制備工藝與應用》是2001年冶金工業出版社出版的圖書。本書比較全面地敘述金剛石薄膜沉積制備工藝與應用。
基本信息
出版社: 冶金工業出版社; 第1版 (2001年6月1日)
平裝: 208頁
開本: 32開
ISBN: 7502427759
條形碼: 9787502427757
產品尺寸及重量: 19.8 x 13.8 x 1.2 cm ; 281 g
ASIN: B0011C6WUS
內容簡介
本書從金剛石薄膜的優異性能和應用前景出發，闡述了各種沉積薄膜的制備方法；論述了金剛石薄膜的非平衡熱力學和金剛石膜聲場的動力學因素；較詳盡地探討了能大面積沉積金剛石膜的熱絲裝置和當今沉積速率最高的等離子射流裝置的一些關鍵技術和成膜關鍵技術和成膜工藝；同時介紹了性能接近金剛石膜、易實現產業化、應用前景看好的類金剛石膜的制備工藝、性能和應用。最后展望了金剛石膜未來的發展前景，指出金剛石膜必將成為21世紀有影響的功能薄膜材料。
目錄
第1章 概論
1 金剛石薄膜的優異性能及其應用前景
……
第2章 金剛石薄膜沉積的非平衡勢力學與形成機理
1 概述
……
第3章 金剛石薄膜沉積生長的動力學因素與動力學方程
1 金剛石薄膜沉積生長的一些動力學因素
……
第4章 高速大面積沉積金剛石薄膜的裝置
1 大面積沉積金剛石薄膜的熱絲CVD裝置
……
第5章 金剛石膜沉積工藝
1 金剛石膜的主要沉積方法和成膜生長概述
……
第6章 類金剛石薄膜（DLC膜）
1 DLC膜的概述與表征
……
第7章 結語與展望
1 金剛石膜進展概況
……
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