二硅化（鉬 Disilicide）是一種鉬的硅化合物，也稱為硅化鉬，分子式為MoSi2 ，分子量為154.13。
由于兩種原子的半徑相差不大，電負性比較接近，所以其具有近似于金屬與陶瓷的性質。熔點高達2030℃，具有導電性，在高溫下表面能形成二氧化硅鈍化層以阻止進一步氧化，其外觀為灰色金屬色澤，源于其四方α-型晶體結構，也存在六角形但不穩定的β-改性晶體結構。不溶于大部分酸，但可溶于硝酸和氫氟酸。
發展歷史
硅化鉬于1906年發現，硅和鉬在不同條件下，可形成硅化三鉬（MoSi）、三硅化五鉬（MoSi）和二硅化鉬（MoSi）。
三種硅化鉬中最主要是二硅化鉬（MoSi），是一種約翰·道爾頓型金屬間化合物，其晶體結構中的原子結合呈現金屬鍵和共價鍵共存的特征，具有優良的高溫本質特征。
早在1907年，二硅化鉬就用作金屬的高溫防腐涂層材料，20世紀50年代出現了二硅化鉬電熱元件。
二硅化鉬作為結構材料是在50年代初首次提出的，但直到70年代，隨著脆性材料作為結構材料這一概念的出現，才被重視。80年代發生了飛躍性的進展，其研究工作，在世界范圍內廣泛開展起來。
物化性質
MoSi是Mo-Si二元合金系中含硅量最高的一種中間相，是成分固定的約翰·道爾頓型金屬間化合物。具有金屬與陶瓷的雙重特性，是一種性能優異的高溫材料。很好的高溫抗氧化性，抗氧化溫度高達1600℃以上，與碳化硅相當；有適中的密度（6.24g/cm）；較低的熱膨脹系數（8.1×10K）；良好的電熱傳導性；較高的脆韌轉變溫度（1000℃）以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金屬般的軟塑性。MoSi主要應用作發熱元件、集成電路、高溫抗氧化涂層及高溫結構材料。
在MoSi中鉬與硅之間以金屬鍵結合，硅和硅之間則以共價鍵連結，二硅化鉬為灰色四方晶體。不溶于一般的礦物酸（包括王水），但溶于硝酸和氫氟酸的混合酸中，具有良好的高溫抗氧化能力，可用作高溫（<1700℃）氧化氣氛中工作的發熱元件。
在氧化氣氛中，高溫燃燒致密的石英玻璃（SiO）的表面上形成保護膜層，以防止二硅化鉬連續氧化。當加熱元件的溫度是高于1700℃，形成SiO保護膜，在熔點為1710℃下稠合，和SiO融合成熔融滴。由于其表面延伸的動作，因此失去其保護能力。在氧化劑作用下，當元素被連續地使用，再次形成保護膜的形式。應當提示的是由于在低溫度的強氧化作用，該元素不能長時間被用于400-700℃溫度環境下。
用途
二硅化鉬的應用于高溫抗氧化涂層材料、電加熱元件、集成電極薄膜、結構材料、復合材料的增強劑、耐磨材料、結構陶瓷的連接材料等領域，分布在以下幾個行業：
1）能源化學工業：電加熱元件、原子反應堆裝置的高溫熱交換器、氣體燃燒器、高溫熱電偶及其保護管、熔煉器皿堝（用于熔煉鈉、鋰、鉛、鉍、錫等金屬）。
2）微電子工業：MoSi與其他一些難熔金屬硅化物TiSi、WSi、TaSi等是大規模集成電路柵極及互連線薄膜重要的候選材料。
3）航空航天工業：作為高溫抗氧化涂層材料得到廣泛而深入的研究和應用。特別是作為渦輪發動機構件，如葉片、葉輪、燃燒器、尾噴管及密封裝置的材料。
4）汽車工業：汽車用渦輪發動機增壓器轉子、氣門閥體、火花塞以及發動機零部件。
合成方法
二種元素直接反應可制得MoSi。
貯存方法
常溫密閉避光，通風干燥處。
計算化學數據
1、氫鍵供體數量：0
2、氫鍵受體數量：0
3、可旋轉化學鍵數量：0
4、拓撲分子極性表面積（TPSA）：0
5、重原子數量：3
6、表面電荷：0
7、復雜度：18.3
8、同位素原子數量：0
9、確定原子立構中心數量： 0
10、不確定原子立構中心數量：0
11、確定化學鍵立構中心數量：0
12、不確定化學鍵立構中心數量：0
13、共價鍵單元數量：1
參考資料 >
二硅化鉬.化學品數據庫.2017-10-28