氮化鉻是一種無機化合物，化學式為CrN，CAS NO為12053-27-9，EINECS 是246-016-3。它非常硬，抗腐蝕性也很強。氮化鉻是一種間隙化合物，其中的氮填充于鉻原子組成的八面體縫隙中。因此，它不是嚴格意義上的鉻(III)化合物，也不含氮離子 (N3?)。2017年10月27日，世界衛生組織國際癌癥研究機構公布的致癌物清單初步整理參考，鉻(III)化合物在3類致癌物清單中。鉻還有另一種間隙氮化物——一氮化二鉻 Cr2N。
生產方法
1.將低碳鉻鐵在真空加熱爐于1150℃氮化得到粗氮化鉻鐵，再經硫酸處理，除去鐵雜質。經過濾、水洗、干燥，即得氮化鉻。也可由氨和鹵化鉻反應制得。
2.將高純度電解鉻粉末，在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮氣流中，于1060℃下加熱160h之后，排出氮氣并進行急冷，則制得Cr2N。
3.低碳鉻鐵碎至＜３ｍｍ，取1000ｋｇ在真空加熱爐于1Chemicalbook150℃及氮壓0.0987ＭＰａ氮化24ｈ，得到粗氮化鉻鐵。冷后粉碎至＜０．３ｍｍ，取１０００ｋｇ在９５０℃再次進行氮化（其他條件同前）。冷后粉碎至＜0.3mm，放進１ｍ３反應器，用硫酸處理１６ｈ，將鐵溶除。過濾、水洗、干燥。回收１０９ｋｇ氮化鉻，含Ｃｒ７８．６％，Ｎ２１９．７％，Ｏ２０．８０％，Ｆｅ０．５９％，Ｃ０．１３％。也可由氨和鹵化鉻反應制得。
其他信息
采用陰極電弧等離子體沉積技術。陰極電弧等離子體沉積是相對較新的薄膜沉積技術，它在許多方面類似于離子鍍技術。其優點：在發射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動能（40-100eV)。許多離子束沉積的優點，如提高粘著力，增加態密度、對化合物膜形成具有高反應率等優點在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨特優點，如可在較多復雜形狀基片上進行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學配比的化合物或合金。
通過蒸發過程將陰極材料蒸發，是源于高電流密度，所得到的蒸發物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰極電弧點，材料幾乎百分百被離化，這里離子在幾乎垂直于陰極表面的方向發射出去，當帶有高能量的鉻離子碰到氮氣后便會馬上產生化學反應，變成氣態的氮化鉻分子了。
參考資料 >