真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層。
簡(jiǎn)介
真空蒸鍍：在高真空下，通過(guò)金屬細(xì)絲的蒸發(fā)和凝結(jié)，使金屬薄層附著在塑膠表面。真空蒸鍍過(guò)程中金屬(最常用的鋁)的熔融，蒸發(fā)僅需幾秒鐘，整個(gè)周期一般不超過(guò)15s，鍍層厚度為0.8-1.2uM。
設(shè)計(jì)真空蒸鍍塑料制品應(yīng)避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果最佳。真空蒸鍍很難獲得光學(xué)平面樣制品表面。
真空鍍層附著力比水鍍好很多，但價(jià)格稍微貴一些。
A9手機(jī)的面殼鍍銅后鍍LOU，共10μ，鍍LOU層0.18μ。真空電鍍相對(duì)于水電鍍來(lái)講，表面硬度較低，但污染較小。真空鍍不導(dǎo)電。
應(yīng)用
目前水電鍍?cè)谥毓I(yè)上應(yīng)用較多（汽車等），而真空電鍍則廣泛應(yīng)用于家用電器、化妝品包裝。
如果真空電鍍的硬度能達(dá)到水電鍍的等級(jí)，那么水電鍍將要消失了。
目前很多手機(jī)上的金屬外觀件，都采用PVD真空離子鍍，不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過(guò)比較貴，成本較高。
濺射鍍：磁控濺射鍍膜設(shè)備：
磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備。可根據(jù)用戶要求配置旋轉(zhuǎn)磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，
組態(tài)靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、致密、附著力強(qiáng)等特點(diǎn)，可廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。
a旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜機(jī)；旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜技術(shù)，是國(guó)內(nèi)外最先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù)，靶材利用率達(dá)到70～80%
以上，基體鍍膜均勻，色澤一致。
b平面磁控濺射鍍膜機(jī)；
c中頻磁控濺射鍍膜機(jī)；
d射頻磁控濺射鍍膜機(jī)。
可以在金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼及金屬反應(yīng)物（氧化
物、氮化物、炭化物）、半導(dǎo)體金屬及反應(yīng)物。所鍍膜層均勻、致密、附著力好等特點(diǎn)。
一、單室/雙室/多室磁控濺射鍍膜機(jī)
該鍍膜機(jī)主要用於各種燈飾、家電、表、玩具以及美術(shù)工藝等行業(yè)，在金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）等
制品鍍制鋁、銅、鉻、鈦、鋯、不銹鋼等系列裝飾性膜層。
技術(shù)指標(biāo)：
真空室尺寸：可以根據(jù)用戶的要求設(shè)計(jì)成單室或雙室或多室
極限壓力：8×10-4Pa
恢復(fù)真空度時(shí)間：空載 從大氣至 5 × 10-2Pa ≤ 3或8min（根據(jù)用戶要求定）
工作真空度：10～1.0× 10-1Pa
工藝氣體進(jìn)入裝置：質(zhì)量流量控制器（可選配自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀）
轉(zhuǎn)動(dòng)工件架形式：公 / 自轉(zhuǎn)工件架
濺射源：矩形平面濺射源（1～4個(gè)）/柱狀濺射源（1個(gè)）/混合濺射源
可以選配：基片烘烤裝置；反濺射清洗
二、單室/雙室/多室磁控反應(yīng)濺射鍍膜機(jī)
該鍍膜機(jī)主要用於太陽(yáng)能吸熱管所需要的鍍膜涂層（如Al—N/Al或Cu—C/1Cr18Ni9Ti）；高級(jí)轎車後視鏡鍍膜
（藍(lán)玻）；裝飾仿金、七彩鍍膜；透明導(dǎo)電膜（ITO膜）；保護(hù)膜。
真空室尺寸：可以根據(jù)用戶的要求設(shè)計(jì)成單室或雙室或多室
極限壓力：8×10-4Pa
恢復(fù)真空度時(shí)間：空載 從大氣至 5 × 10-2Pa ≤ 15min（根據(jù)用戶要求定）
工作真空度：10～1.0× 10-1Pa
工藝氣體進(jìn)入裝置：質(zhì)量流量控制器（可選配自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀）
工作氣路：2路或3路
轉(zhuǎn)動(dòng)工件架形式：公 / 自轉(zhuǎn)工件架
濺射源：矩形平面濺射源（1～4個(gè)）/柱狀濺射源（1個(gè)）/混合濺射源
三、多功能鍍膜機(jī)
設(shè)備基本配置：
真空室
工件轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)
真空抽氣系統(tǒng)
工作氣體供氣系統(tǒng)
濺射系統(tǒng)：
平面濺射/柱狀濺射/中頻濺射/射頻濺射系統(tǒng)
動(dòng)系統(tǒng)
控制系統(tǒng)
冷卻系統(tǒng)
技術(shù)指標(biāo)：
真空室尺寸：φ600×800 φ850×1000 φ1000×1200 φ1100×1500 可以根據(jù)用戶的要求設(shè)計(jì)成箱式
極限壓力：8×10-4Pa
恢復(fù)真空度時(shí)間：空載 從大氣至 5 × 10-2Pa ≤ 15min（根據(jù)用戶要求定）
工作真空度：10～1.0× 10-1Pa
工藝氣體進(jìn)入裝置：質(zhì)量流量控制器（可選配自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀）
工作氣路：2路或4路
轉(zhuǎn)動(dòng)工件架形式：公 / 自轉(zhuǎn)工件架
濺射源：矩形平面濺射源（1～4個(gè)）/柱狀濺射源（1個(gè)）/中頻濺射源/射頻濺射源/混合濺射源
用途：本設(shè)備應(yīng)用磁控濺射原理，在真空環(huán)境下，在玻璃、陶瓷等非金屬；半導(dǎo)體；金屬基體上制備各種金屬膜、合
金膜、反應(yīng)化合物膜、介質(zhì)膜等等。
四、實(shí)驗(yàn)系列磁控濺射鍍膜機(jī)
技術(shù)指標(biāo)：
真空室：φ450×400
極限壓力：5×10-5Pa
工作壓力：1～1.0× 10-2Pa
真空系統(tǒng)主泵：渦輪分子泵
陰極靶數(shù)量：2～5個(gè)
工作氣體控制：質(zhì)量流量控制器，自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
工作氣路：2路或4路
靶電源：直流磁控濺射源（10000W），
中頻電源（10000W），
射頻電源（2000W）。
工件轉(zhuǎn)動(dòng)：行星式公自轉(zhuǎn)
工件負(fù)偏壓：/
性能特點(diǎn)：磁控靶數(shù)量多，靶材種類變化大，各種參數(shù)變化范圍大，所鍍制膜層有金屬、合金、化合物，可鍍制單
層或多層膜。
五、中頻磁控濺射鍍膜機(jī)
中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)是磁控技術(shù)另一新里程碑，是鍍制化合物（氧化物、氮化物、碳化物）系膜的理想設(shè)備，
徹底克服了靶打弧和中毒現(xiàn)象，并具濺射速率快、沈積速率高等優(yōu)點(diǎn)，適合鍍制錫合金（ITO）、氧化鋁（AL2O3）
、二氧化硅（SiO2）、二氧化鈦（TiO2）、二氧化鋯（ZrO2）、氮化硅（Si3N4）等，配置多個(gè)靶及膜厚儀，可鍍制多種多
層膜或合金膜層。
六、射頻磁控濺射鍍膜機(jī)
具有濺射速率高，能鍍?nèi)魏尾牧希?a href="/hebeideji/5387669033352731461.html">導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料）。在低氣壓下等離子體放電，膜層致密，針孔少。
主要技術(shù)參數(shù)
真空室尺寸：F500′450（mm）
極限真空度：優(yōu)於4′10- 4 Pa （3′10- 6Torr）
濺 射 靶： F 100mm磁控濺射源三只濺
射功率：直流5千瓦，射頻2千瓦
參考資料 >