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三甲基硅是一種有機(jī)硅化合物，化學(xué)式為C3H10Si，呈堿性，為強(qiáng)堿。它是一種極易燃的物質(zhì)，用于半導(dǎo)體工業(yè)中的等離子相腐蝕劑。三甲基硅烷在半導(dǎo)體工業(yè)中也被用作前體物質(zhì)，通過(guò)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PE-CVD）沉積介電層和屏障層。此外，它還被用作源氣體，通過(guò)等離子增強(qiáng)磁控濺射（PEMS）沉積TiSiCN硬涂層。在相對(duì)較低的溫度下（低于1000°C）通過(guò)低壓化學(xué)氣相沉積（LP-CVD）沉積碳化硅硬涂層。三甲基硅烷是一種昂貴的氣體，但比硅烷（SiH4）更安全，并且能夠產(chǎn)生多源氣體中所不具備的涂層性能。與相關(guān)的三乙基硅烷相比，三甲基硅烷不常用作試劑，因?yàn)槿一柰樵谑覝叵率且后w。
化學(xué)性質(zhì)
中文名稱：三甲基硅烷
分子式：C3H10Si
分子量：74.197
InChI：InChI=1/C3H10Si/c1-4(2)3/h4H,1-3H3
沸點(diǎn)：1.7°C at 760 mmHg
蒸汽壓：1710mmHg at 25°C
本物質(zhì)是三甲基硅烷基氯化鎂（Me3SiMgCl）的共軛酸，為超強(qiáng)堿，其pKa=70。
參考資料 >