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正型光刻膠是一種用于光刻技術的化學物質，主要由光分解劑、堿性可溶性沒藥樹和溶劑構成。這種光刻膠的特點包括分辨率高，能夠獲得精細的亞微米級線寬圖形，同時具有良好的顯影性能和較高的耐熱性。
物理性質
正型光刻膠呈暗褐色液體狀態，容易溶解于醚、酯、酮等多種有機溶劑。它是由重氮茶醒磺酸醋和線性PF經過特定的制備過程而成。
光學特性
當受到紫外線照射時，正型光刻膠中的光分解劑會發生分解反應，在光照區域內的化合物會溶解于有機或無機化合物堿性水溶液中。而未暴露的部分則得以保留，從而形成與母版一致的圖案。
應用領域
正型光刻膠廣泛應用于大規模集成電路、電子元件以及光學機械加工等領域。它的快速感光速度使其適合于投影曝光和分步重復曝光等工藝。此外，正型光刻膠還表現出對多種材料的良好粘附性和抗腐蝕性，如二氧化硅、多晶硅、鋁、銅、金、鉑等。在相對濕度50%的環境中，正型光刻膠的顯影和曝光操作具有較大的寬容度，易于剝離，并能承受高達140℃的烘焙溫度而不變形。
參考資料 >